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PVD離子源技術電鍍類金剛石塗層
來源: | 發布日期:2022-09-06

由於類金剛石膜層具有許多與金剛石相似或相近的優良性能,如硬度高、彈性模量高、摩擦因數低、生物相溶性好、聲學性能好、電學性能佳等。因此在工業各領域都有極大的應用前景,如作為工模具的耐磨及低摩擦塗層、揚聲器振膜塗層、生物塗層、光學保護塗層、場發射器塗層、裝飾塗層等。類金剛石塗層就可以通過PVD離子源技術 來實現。

PVD離子源技術

目前類金剛石膜層的研究、開發、製備及應用正向深度和廣度推進。製備的方法很多:如離子束輔助沉積、磁控濺射、真空陰極電弧沉積、等離子體增強化學氣相沉積、離子注入法等。但不同的製備方法,DLC膜的成分、結構和性能有很大的差別。要實現大批量、大麵積、質優的DLC膜的應用,還存在不少問題,如製備成本高、單爐次批量不大、製備厚塗層難等。

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【本文標簽】 PVD離子源技術

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