磁控濺射91好色先生TV污 技術自問世後就獲得了迅速的發展和廣泛的應用,有力地衝擊了其它91好色先生TV污方法的地位,磁控濺射主要有以下特點:
沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小;對於大部分材料,隻要能製成靶材,就可以實現濺射;濺射所獲得的薄膜與基片結合較好;濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好;
濺射工可重複性好,可以在大麵積基片上獲得厚度均勻的薄膜;能夠控製鍍層的厚度,同時可通過改變參數條件控製組成薄膜的顆粒大小;不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合,同時濺射於基材上;易於實現工業化。
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